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J-GLOBAL ID：200903011429521111

原子線ホログラフィを用いる原子線パターン形成方法

Inventor： 藤田 淳一 ,  清水 富士夫 ,  松井 真二
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996190739
Publication number (International publication number)：1998039726
Application date： Jul. 19, 1996
Publication date： Feb. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ホログラフィの手法により原子線を用いて、マスクあるいはレジストなしで再生基板上に超微細なパターンを直接形成する方法を提供する。【解決手段】 1次元または2次元のスリットアレイよりなるホログラムの各スリットに、それぞれ電極対または電線を付加して形成し、スリット内に電場あるいは磁場を生成させる。これらの電場または磁場は各スリットごとに、スリットを通過する原子線に目的のホログラム再生像にそれぞれ対応する位相シフトを与えるように設定するので、容易に目的とするホログラム再生像を得ることができる。1次元スリットアレイにより1次元の再生像を得るごとに再生基板を移動させることにより2次元の再生像を得ることもでき、また、2次元スリットアレイにより2次元の再生像を得るごとに、その上に焦点距離を変えて次の2次元再生像を堆積させ、この動作をくり返すことにより3次元パターン像の再生も可能である。

Claim (excerpt)：

基板面に間隔を置いて複数のスリットが1列に配置された1次元スリットアレイより構成され、前記各スリットは当該スリット内で1次元スリットアレイの方向と直角かつ基板面に平行な方向に電場を生成するための電極対を備えている原子線ホログラムを用いて、前記各スリットの電極対に、当該スリットを通過する原子線に任意のホログラム再合成パターンに対応する位相シフトを与える電場を生成するための電位をそれぞれ印加し、前記原子線ホログラム面に垂直に原子線を入射させ、前記1次元スリットアレイを通過する原子線により任意の1次元ホログラム再合成パターンを得る原子線パターン形成方法。