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J-GLOBAL ID：200903011472710084

多孔質錯体とその製造法および吸着剤

Inventor： 足立 貴義 ,  市田 泰三 ,  内野 誠
Applicant, Patent owner： 大陽東洋酸素株式会社
Agent (1)： 大石 征郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999138328
Publication number (International publication number)：2000327628
Application date： May. 19, 1999
Publication date： Nov. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】 銅イオンとトリメシン酸類とから合成される新規な錯体を提供すること、およびその錯体を工業的に有利に製造する方法を提供すること、さらにはその錯体の用途の一例である吸着剤を提供することを目的とする。【解決手段】 銅イオンとトリメシン酸類とから合成される錯体であって、[Cu3(C9H3O6)2]n を基本単位とする構造式を有し、かつ粉末X線回折におけるメインの面間隔dが実質的に7.60Åである多孔質錯体である。この多孔質錯体は、典型的には、銅塩とトリメシン酸類とを両者を溶解する有機溶媒中で反応させることにより得られる。

Claim (excerpt)：

(イ)銅イオンとトリメシン酸類とから合成される錯体であって、(ロ)[Cu3(C9H3O6)2]n を基本単位とする構造式を有し、(ハ)かつ粉末X線回折におけるメインの面間隔dが実質的に7.60Åであること、を特徴とする多孔質錯体。

IPC (4)：

C07C 63/307 ,  B01J 20/22 ,  B01J 20/30 ,  C07F 1/08

FI (4)：

C07C 63/307 ,  B01J 20/22 A ,  B01J 20/30 ,  C07F 1/08 B

F-Term (26)：

4G066AA53A ,  4G066AB06D ,  4G066AB07A ,  4G066AB24B ,  4G066BA23 ,  4G066BA26 ,  4G066BA31 ,  4G066CA27 ,  4G066CA37 ,  4G066FA05 ,  4H006AA01 ,  4H006AB90 ,  4H006AC47 ,  4H006AC90 ,  4H006BB14 ,  4H006BE62 ,  4H006BE90 ,  4H048AA01 ,  4H048AA02 ,  4H048AA03 ,  4H048AB80 ,  4H048AC90 ,  4H048BB14 ,  4H048VA20 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10