表面処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：梅田明彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999012347
Publication number (International publication number)：2000216141
Application date： Jan. 20, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】大気圧プラズマを利用した表面処理装置において、放電領域と反応性ガスを噴射するノズルとの距離を短くでき、処理条件に応じてノズル寸法を自由に選択でき、放電安定性の向上、良好な局所的表面処理を可能にする。【解決手段】誘電体材料のガス導入ブロック37及び放電管10と金属製のノズルチップ25とを連結して、ガス供給源からガス噴射口24に至るガス流路を画定し、かつ放電管内で放電用ガスに大気圧近傍の圧力下で気体放電させるようにその両側に対向配置される電源・接地電極12、13とノズルチップとの間を絶縁部材29で気密にかつ電磁気的に遮断する。反応性ガスはガス噴射口から細い噴流として噴射され、その周囲に開口する排気吸込口28から外部に強制排気される。ノズルホルダ26内面との間に排気通路を画定する絶縁部材と電極ブロック19とは、対応する凹凸部32、31aを嵌め合わせかつガスケット33を用いて気密に接合する。

Claim (excerpt)：

内部にガス流路を画定しかつその一端においてガス供給源に接続される誘電体材料の放電管と、前記ガス供給源から前記放電管内に供給される放電用ガスに大気圧又はその近傍の圧力下で気体放電を生じさせるように、前記放電管を挟んで対向配置される電源電極及び接地電極と、前記気体放電により生成される前記放電用ガスの励起活性種を含む反応性ガスを被処理物に向けて噴射させるように、前記放電管の他端に連結される金属材料のノズルと、前記両電極と前記ノズルとの間を遮断する第1誘電体部品とを有することを特徴とする表面処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00 , H05H 1/46

FI (3)：

H01L 21/302 B , C23F 4/00 A , H05H 1/46

F-Term (23)：

4K057DA20 , 4K057DB20 , 4K057DD01 , 4K057DE08 , 4K057DE14 , 4K057DE20 , 4K057DG08 , 4K057DG13 , 4K057DG20 , 4K057DM06 , 4K057DM09 , 4K057DN01 , 5F004AA00 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB18 , 5F004BC08 , 5F004BD01 , 5F004CA02 , 5F004DA01 , 5F004DA22 , 5F004DA26 , 5F004DB23

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

表面処理方法及びその装置、半導体装置の製造方法及びその装置、並びに液晶ディスプレイの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-124250 Applicant：セイコーエプソン株式会社
特開昭53-006239
表面処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-268000 Applicant：セイコーエプソン株式会社

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