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J-GLOBAL ID：200903011484967919

光学素子の洗浄方法および洗浄装置

Inventor： 鈴木 博幸
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998321351
Publication number (International publication number)：2000126704
Application date： Oct. 28, 1998
Publication date： May. 09, 2000
Summary：

【要約】【課題】 溶剤等の使用量を減らし、かつ紫外領域の波長で使用する光学素子にも適用できる洗浄方法を提供する。【解決手段】 光学素子表面の材料に対して不活性なガスとオゾンとの混合ガスを、該光学素子表面を横切る方向に略平行または僅かに角度を持つ方向から導入し、同時に該光学素子表面から汚染物質を除去するには十分であるが、該光学素子表面の結晶構造は維持できる範囲内の高エネルギー光を該光学素子表面に照射する。

Claim (excerpt)：

光学素子表面の材料に対して不活性なガスとオゾンとの混合ガスを、該光学素子表面を横切る方向に略平行または僅かに角度を持つ方向から導入し、同時に該光学素子表面から汚染物質を除去するには十分であるが、該光学素子表面の結晶構造は維持できる範囲内の高エネルギー光を該光学素子表面に照射することを特徴とする光学素子洗浄方法。

IPC (2)：

B08B 5/04 ,  G02B 1/10

FI (2)：

B08B 5/04 ,  G02B 1/10 Z

F-Term (9)：

2K009BB02 ,  2K009DD08 ,  2K009EE00 ,  3B116AA03 ,  3B116AB33 ,  3B116AB42 ,  3B116BB22 ,  3B116BB72 ,  3B116BC01