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J-GLOBAL ID：200903011500792202

レジスト材料用酸発生剤

Inventor： 浦野 文良 ,  中畑 正明 ,  藤江 啓利 ,  大野 圭二
Applicant, Patent owner： 和光純薬工業株式会社
Agent (1)： 平井 順二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997342117
Publication number (International publication number)：1998213899
Application date： Jan. 30, 1991
Publication date： Aug. 11, 1998
Summary：

【要約】【課題】遠紫外光、KrFエキシマ レーザ光等を光源とするフォトリソグラフ用レジスト材料に好適な酸発生剤の提供。【解決手段】一般式〔1〕【化1】(式中、R9は炭素数3〜10の分枝状又は環状のアルキル基を表わし、R10は炭素数1〜10の直鎖状、分枝状又は環状のアルキル基を表わす。)で示される化合物を含んでなる、レジスト材料用酸発生剤。

Claim (excerpt)：

一般式〔1〕【化1】(式中、R9は炭素数3〜10の分枝状又は環状のアルキル基を表わし、R10は炭素数1〜10の直鎖状、分枝状又は環状のアルキル基を表わす。)で示される化合物を含んでなる、レジスト材料用酸発生剤。

IPC (3)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-084648
  
• 特開平2-118655
  
• 特開平2-187764
  
• 特開平3-103854