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J-GLOBAL ID：200903011507287015

パルスレーザー光の繰り返し周波数逓倍方法およびその装置

Inventor： 田中 拓男 ,  林 孝之 ,  河田 聡
Applicant, Patent owner： 独立行政法人理化学研究所
Agent (1)： 上島 淳一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004320101
Publication number (International publication number)：2006133347
Application date： Nov. 04, 2004
Publication date： May. 25, 2006
Summary：

【課題】従来の技術の有する上記した問題点1乃至問題点4を解消しながら、パルスレーザー光のパルスの繰り返し周波数を増加させることができるようにする。【解決手段】誘電体基板の第1の面から上記誘電体基板内に入射されたパルスレーザー光が、上記誘電体基板の上記第1の面に対向する第2の面と上記第1の面とによって多重反射して上記誘電体基板内を往復するのに要する時間が、上記第1の面から入射されたパルスレーザー光の周波数の逆数の整数分の1になるような厚みを有する上記誘電体基板に、上記第1の面からパルスレーザー光を入射し、上記第1の面と上記第2の面との間での多重反射により上記誘電体基板内を往復させるとともに当該往復により到達した上記第1の面から出射させ、時間軸上で元のパルスの間にパルスを櫛状に順次挿入する。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

誘電体基板の第1の面から前記誘電体基板内に入射されたパルスレーザー光が、前記誘電体基板の前記第1の面に対向する第2の面と前記第1の面とによって多重反射して前記誘電体基板内を往復するのに要する時間が、前記第1の面から入射されたパルスレーザー光の周波数の逆数の整数分の1になるような厚みを有する前記誘電体基板に、前記第1の面からパルスレーザー光を入射し、前記第1の面と前記第2の面との間での多重反射により前記誘電体基板内を往復させるとともに該往復により到達した前記第1の面から出射させ、時間軸上で元のパルスの間にパルスを櫛状に順次挿入する ことを特徴とするパルスレーザー光の繰り返し周波数逓倍方法。

IPC (1)：

G02B 5/30

FI (1)：

G02B5/30

F-Term (5)：

2H049BA02 ,  2H049BB11 ,  2H049BB16 ,  2H049BB22 ,  2H049BC22

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 三次元光メモリー媒体及びその記録方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-022315   Applicant：セントラル硝子株式会社
• 三次元微小構造物の製造方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-191762   Applicant：科学技術振興事業団
• 超短パルスレーザーを用いた微細加工方法及びその加工物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-012391   Applicant：科学技術振興事業団, アイテック株式会社
• パルス逓倍方法及び装置並びに光学ブロック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-034397   Applicant：沖電気工業株式会社