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J-GLOBAL ID：200903011514746777

投影光学系及びそれを備えた露光装置

Inventor： 加藤 正紀 ,  白数 廣 ,  田中 正司
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994200494
Publication number (International publication number)：1996064501
Application date： Aug. 25, 1994
Publication date： Mar. 08, 1996
Summary：

【要約】【目的】 製造コストの低減を図ること。【構成】 マスク(100) の像をプレート(200) 上に形成する投影光学系は、光軸(Ax)とこの光軸と共軸な少なくとも一面の反射面(3) とを有する光学系(2,3) と、この光学系とマスクとの間の光路中に配置される第1光分割手段(PR1) と、光学系とプレートとの間の光路中に配置される第2光分割手段(PR2) とを有する。そして、第2光分割手段を介した光束を光軸を横切る方向に沿って移送して第1光分割手段へ導く。

Claim (excerpt)：

マスクの像を基板上に形成する投影光学系において、光軸及び該光軸に共軸な少なくとも一面の反射面を有する光学系と、該光学系と前記マスクとの間の光路中に配置される第1光分割手段と、前記光学系と前記基板との間の光路中に配置される第2光分割手段とを有し、該第2光分割手段を介した光束を前記光軸を横切る方向に沿って移送して前記第1光分割手段へ導くことを特徴とする投影光学系。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/72 ,  G03F 7/20 521