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J-GLOBAL ID：200903011515244988

ギ酸分解用触媒、ギ酸の分解方法、水素製造方法、ギ酸製造および分解用装置、水素貯蔵および発生方法

Inventor： 福住 俊一 ,  末延 知義 ,  小林 岳史
Applicant, Patent owner： 独立行政法人科学技術振興機構
Agent (2)： 辻丸 光一郎 ,  中山 ゆみ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007247549
Publication number (International publication number)：2009078200
Application date： Sep. 25, 2007
Publication date： Apr. 16, 2009
Summary：

【課題】高活性で、水素(H2)を安全に、効率良く、かつ低コストで提供することが可能なギ酸分解用触媒を提供する。【解決手段】該ギ酸分解用触媒は、シクロペンタジエン置換体からなる配位子ならびに窒素含有複素環式化合物からなる配位子を有したロジウム単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含む。該ギ酸分解用触媒を用いると、ギ酸を原料として極めて高効率で繰り返し水素の発生(製造)を行うこともできる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

下記式(1)で表されるロジウム単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むギ酸分解用触媒。

IPC (5)：

B01J 31/22 ,  C01B 3/22 ,  C01B 3/00 ,  C07C 51/00 ,  C07C 53/02

FI (5)：

B01J31/22 M ,  C01B3/22 Z ,  C01B3/00 B ,  C07C51/00 ,  C07C53/02

F-Term (25)：

4G140AA31 ,  4G140DA02 ,  4G140DB04 ,  4G140DC03 ,  4G169AA02 ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC71A ,  4G169BC71B ,  4G169BE04A ,  4G169BE04B ,  4G169BE14A ,  4G169BE14B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169CB81 ,  4G169CC31 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC46 ,  4H006BE20 ,  4H006BE41 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CF30