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J-GLOBAL ID:200903011531381820
電磁波シールドプラスチック成形品
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992298940
Publication number (International publication number):1994145396
Application date: Nov. 09, 1992
Publication date: May. 24, 1994
Summary:
【要約】【構成】 あらかじめ洗浄することなく、プライマーコート層を配設せずにプラスチック成形品表面に高周波励起プラズマによる0.7 〜5.0 μmの膜厚の銅を成膜した後に電解メッキ銅、さらに保護メッキ膜の成膜を配設してなる電磁波シールドプラスチック成形品。【効果】 気相蒸着の特徴を生かしつつ、電磁気シールド効果に優れ、厚膜銅の成膜が効率よく可能で、フロン洗浄を行うことなく、プライマーコート層の配設を必要とすることなく、廃液、廃気による汚染を心配することのない電磁気シールドプラスチック成形品が提供される。
Claim (excerpt):
あらかじめ洗浄することなく、しかもプライマーコート層を配設せずにプラスチック成形品表面に高周波励起プラズマによる0.7 〜5.0 μmの膜厚の銅膜を配設し、次いで10〜30μm厚の銅電解メッキ膜を配設してなる電磁波シールドプラスチック成形品。
IPC (6):
C08J 7/06
, B32B 15/08
, B32B 15/20
, C08J 7/00 306
, C23C 14/22
, H05K 9/00
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