Pat

J-GLOBAL ID：200903011545017315

研磨用酸化セリウムスラリー、その製造法及び研磨方法

Inventor： 貴堂 高徳 ,  三林 正幸 ,  辻野 史雄 ,  市川 景隆
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 菊地 精一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999331107
Publication number (International publication number)：2000239654
Application date： Nov. 22, 1999
Publication date： Sep. 05, 2000
Summary：

【要約】【課題】 研磨速度の改善及び研磨後の仕上げ面の欠陥の少ない研磨用スラリーを提供すること。【解決手段】 酸化セリウムを水に分散させた研磨用のスラリーで、スラリー中の酸化セリウムの濃度をc質量%としたとき、スラリーの導電率が30c・μS/cm以下としたスラリーである。スラリーの導電率を30c・μS/cm以下とするには酸化セリムを脱イオン水で洗浄する。

Claim (excerpt)：

酸化セリウムを水に分散させた研磨用のスラリーであって、スラリー中の酸化セリウム濃度をc質量%としたとき、スラリー導電率が30c・μS/cm以下であることを特徴とする研磨用酸化セリウムスラリー。

IPC (3)：

C09K 3/14 550 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (3)：

C09K 3/14 550 D ,  B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 622 D

F-Term (6)：

3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17