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J-GLOBAL ID：200903011561103779

塗布装置

Inventor： 石川 秀紀 ,  須永 眞樹
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001291246
Publication number (International publication number)：2003093956
Application date： Sep. 25, 2001
Publication date： Apr. 02, 2003
Summary：

【要約】【課題】 塗布面から飛散した塗布液が塗布面に再付着することを大幅に抑制し、生産性の向上を図る。【解決手段】 ディスク基板2を回転駆動する回転駆動機構5と、この回転駆動機構5によって回転駆動されるディスク基板2の軸回り方向に亘って設けられてディスク基板2の側面側を覆う筒状の第1の遮蔽部材6と、回転駆動機構5によって回転駆動されるディスク基板2の塗布面に対向されて塗布面側を覆う第2の遮蔽部材7と、第1および第2の遮蔽部材6,7のディスク基板2に対向する各対向面にそれぞれ設けられてディスク基板2の塗布面から飛散する保護液を吸収して保持する第1および第2の保護液吸収体11,12とを備える。

Claim (excerpt)：

被塗布基板の塗布面に塗布液をスピンコーティング方式で塗布する塗布装置であって、被塗布基板を回転駆動する回転駆動手段と、前記回転駆動手段によって回転駆動される被塗布基板の軸回り方向に亘って設けられて、被塗布基板の側面側を覆う筒状の第1の遮蔽部材と、前記回転駆動手段によって回転駆動される被塗布基板の塗布面に対向されて塗布面側を覆う第2の遮蔽部材と、前記第1および第2の遮蔽部材の被塗布基板に対向する各対向面にそれぞれ設けられて、被塗布基板の塗布面から飛散する塗布液を吸収して保持する塗布液吸収体とを備える塗布装置。

IPC (2)：

B05C 11/08 ,  B05C 5/00 101

FI (2)：

B05C 11/08 ,  B05C 5/00 101

F-Term (7)：

4F041AA02 ,  4F041AB01 ,  4F041CB01 ,  4F041CB08 ,  4F042AA08 ,  4F042DG09 ,  4F042EB12