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J-GLOBAL ID:200903011591637131

脱イオン水製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 外山 三郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994334647
Publication number (International publication number):1996168773
Application date: Dec. 20, 1994
Publication date: Jul. 02, 1996
Summary:
【要約】【目的】長期間に亙って低い導電率の脱イオン水が連続して得られる脱イオン水製造装置を提供する。【構成】基材にポリオレフィンまたはフッ素化ポリオレフィンを用い、該基材に陰イオン交換基を有する或いは重合後に陰イオン交換基を導入できるモノマ-を担持させ、さらに該モノマ-を重合させ、必要によりイオン交換基導入反応を施すことにより得られる陰イオン交換膜が用いられる。
Claim (excerpt):
陰極と陽極の間に陽イオン交換膜と陰イオン交換膜とを交互に配列させた電気透析装置の脱塩室にイオン交換体を充填してなる脱イオン水製造装置において、陰イオン交換膜として、ポリオレフィンまたはフッ素化ポリオレフィンを基材とし、該基材に陰イオン交換基を有する或いは重合後に陰イオン交換基を導入できるモノマ-を担持させ、さらに該モノマ-を重合させ、必要により陰イオン交換基導入反応を施すことにより得られる陰イオン交換膜が用いられていることを特徴とする脱イオン水製造装置。
IPC (8):
C02F 1/469 ,  B01D 61/46 500 ,  B01D 61/48 ,  B01D 67/00 500 ,  B01D 71/32 ,  B01D 71/82 500 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特公昭57-034017
  • 特開昭63-048339

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