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J-GLOBAL ID:200903011610685479
粒子分散層を含む積層体およびその製造方法、並びに光変調素子
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (5):
中村 智廣
, 成瀬 勝夫
, 小泉 雅裕
, 青谷 一雄
, 鳥野 正司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006321058
Publication number (International publication number):2008134480
Application date: Nov. 29, 2006
Publication date: Jun. 12, 2008
Summary:
【課題】粒子が分散配置された粒子分散層の表面の平坦性を高めた積層体、およびその製造方法、並びに光変調素子を提供すること。【解決手段】昇温に伴いゲル状態からゾル状態へと変化する第1の材料4に粒子2が分散配置されてなる粒子分散層8と、昇温に伴いゲル状態からゾル状態に、降温に伴いゾル状態からゲル状態に変化し、かつ、温度変化に対するゾル-ゲル変化挙動にヒステリシス性を示す第2の材料を含む被覆層6とを備え、ゾル状態の粒子分散層8とゲル状態の被覆層6とが互いに接して積層されてなり、溶媒を含む状態で、前記第1の材料がゲル状態を維持する最高温度が、前記第2の材料が昇温時にゲル状態を維持する最高温度未満の温度である積層体、およびその製造方法、並びに前記積層体を層構成に含む光変調素子。【選択図】図1
Claim (excerpt):
昇温に伴いゲル状態からゾル状態へと変化する第1の材料に粒子が分散配置されてなる粒子分散層と、
昇温に伴いゲル状態からゾル状態に、降温に伴いゾル状態からゲル状態に変化し、かつ、温度変化に対するゾル-ゲル変化挙動にヒステリシス性を示す第2の材料を含む被覆層と、
を備え、ゾル状態の前記粒子分散層とゲル状態の前記被覆層とが互いに接して積層されてなり、
溶媒を含む状態で、前記第1の材料がゲル状態を維持する最高温度T1が、前記第2の材料が昇温時にゲル状態を維持する最高温度T2未満の温度(T1<T2)であることを特徴とする積層体。
IPC (2):
FI (2):
G02F1/1334
, G02F1/19 501
F-Term (10):
2H089HA06
, 2H089KA06
, 2H089KA09
, 2H089QA16
, 2H089SA17
, 2H189AA05
, 2H189CA06
, 2H189CA09
, 2H189HA16
, 2H189KA18
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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特公平7-009512号公報
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液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-338162
Applicant:株式会社東芝
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特許第3178530号明細書
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液晶デバイス、その駆動方法および駆動装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-037812
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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液晶表示素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-072928
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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Cited by examiner (5)
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液晶材料に基づく反射型ディスプレイ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2007-546743
Applicant:インダストリアルテクノロジーリサーチインスティチュート
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改善された特性を有する高性能可撓性ディスプレイ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-503038
Applicant:インダストリアルテクノロジーリサーチインスティチュート
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液晶表示素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-072928
Applicant:富士ゼロックス株式会社
-
ディスプレイにおけるUV硬化性導電性材料
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-515073
Applicant:イーストマンコダックカンパニー
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反射型液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-254056
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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