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J-GLOBAL ID:200903011617374045

ジアリール誘導体の製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 津国 肇 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993076440
Publication number (International publication number):1994219971
Application date: Mar. 11, 1993
Publication date: Aug. 09, 1994
Summary:
【要約】【構成】 塩基の存在下でのハロゲン化アリールもしくはハロゲン化ヘテロアリール、またはフルオロアルキルスルホン酸アリールもしくはフルオロアルキルスルホン酸ヘテロアリールと芳香族ホウ酸または芳香族ホウ酸誘導体とのカップリングによるジアリーレン類の製造方法であって、担体物質に担持されるパラジウムの存在下で該カップリングを実施することを特徴とする方法。【効果】 上記方法は、液晶化合物および主として液晶化合物の合成のための広範囲な中間体の、経済効率がよく、製造上の問題もない方法であり、高価な触媒に代えて、商業的に容易に入手できる公知のパラジウム水素化触媒を用い得る点が特に有利である。
Claim (excerpt):
塩基の存在下でのハロゲン化アリールもしくはハロゲン化ヘテロアリール、またはフルオロアルキルスルホン酸アリールもしくはフルオロアルキルスルホン酸ヘテロアリールと芳香族ホウ酸または芳香族ホウ酸誘導体とのカップリングによるジアリーレン類の製造方法であって、担体物質に担持されたパラジウムの存在下で該カップリングを実施することを特徴とする方法。
IPC (26):
C07C 13/28 ,  B01J 23/44 ,  C07C 2/86 ,  C07C 15/14 ,  C07C 17/26 ,  C07C 25/18 ,  C07C 43/164 ,  C07C 43/17 ,  C07C 43/178 ,  C07C 45/68 ,  C07C 47/55 ,  C07C 63/331 ,  C07C205/04 ,  C07C205/06 ,  C07C205/20 ,  C07C209/68 ,  C07C211/45 ,  C07C255/49 ,  C07D213/24 ,  C07D237/08 ,  C07D237/14 ,  C07D239/26 ,  C07D239/34 ,  C07D241/12 ,  C07D241/18 ,  C07B 61/00 300

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