半導体回路およびその作製方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994067982
Publication number (International publication number)：1994318701
Application date： Mar. 11, 1994
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】薄膜トランジスタ(TFT)の回路において、低リーク電流のTFTと高速動作が可能なTFTを有する半導体回路およびそのような回路を作製するための方法を提供する。【構成】アモルファスシリコン膜に密着して触媒元素を有する物質を選択的に形成し、もしくはアモルファスシリコン膜中に触媒元素を選択的に導入し、このアモルファスシリコン膜にレーザーもしくはそれと同等な強光を照射することによって結晶化させる。そして、触媒元素の少ない結晶シリコン領域をアクティブマトリクス回路の画素回路に使用されるTFTに、触媒元素の多い結晶シリコン領域を周辺駆動回路に使用されるTFTに用いる。

Claim (excerpt)：

基板上に、形成されたモノリシックアクティブマトリクス回路において、周辺駆動回路の薄膜トランジスタの活性領域は1×1015〜1×1019cm-3の濃度の触媒元素を有し、前記マトリクス領域の薄膜トランジスタの活性領域の触媒元素の濃度は、前記周辺駆動回路の薄膜トランジスタの活性領域の濃度よりも低いことを特徴とする半導体回路。

IPC (7)：

H01L 29/784 , G02F 1/1343 , G02F 1/136 500 , H01L 21/20 , H01L 21/265 , H01L 21/324 , H01L 21/336

FI (3)：

H01L 29/78 311 A , H01L 21/265 B , H01L 29/78 311 Y

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

駆動回路一体型アクテイブマトリクスアレイの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-196332 Applicant：日本電気株式会社
アクテイブマトリクス基板及びアクテイブマトリクス基板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-189825 Applicant：セイコーエプソン株式会社
特開平2-140915

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