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J-GLOBAL ID:200903011676745588

微細凹凸構造の形成方法及び当該凹凸を有する部材

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤元 亮輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001257471
Publication number (International publication number):2003066203
Application date: Aug. 28, 2001
Publication date: Mar. 05, 2003
Summary:
【要約】【課題】 反射防止、撥水、放熱、接着などの用途のために微細な凹凸を安価に形成し、特に、反射防止効果は波長依存性のない凹凸を形成する方法、当該凹凸を有する部材を提供する。【解決手段】 基体上に微細な凹凸をランダムに形成する方法は、前記基体の表面に有機化合物の膜を形成するステップと、前記有機化合物の膜をエッチングするステップと有する。
Claim (excerpt):
基体上に微細な凹凸をランダムに形成する方法であって、前記基体の表面に有機化合物の膜を形成するステップと、前記有機化合物の膜をエッチングするステップと有する方法。
IPC (4):
G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  C23C 14/58 ,  C23C 16/56
FI (4):
C23C 14/58 C ,  C23C 16/56 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
F-Term (30):
2K009AA02 ,  2K009BB01 ,  2K009BB11 ,  2K009CC21 ,  2K009DD12 ,  2K009DD17 ,  2K009EE00 ,  2K009FF03 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029BA12 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA12 ,  4K029EA01 ,  4K029EA02 ,  4K029FA05 ,  4K029GA02 ,  4K030BA14 ,  4K030BA61 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030DA02 ,  4K030DA08 ,  4K030FA01 ,  4K030JA01 ,  4K030JA13 ,  4K030LA11

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