Pat
J-GLOBAL ID：200903011680246650

ホログラム素子

Inventor：
山中 豊

About 山中 豊


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 西村 征生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999099463
Publication number (International publication number)：2000292617
Application date： Apr. 06, 1999
Publication date： Oct. 20, 2000
Summary：
【要約】【課題】 凹凸形状の周期に相応する適度な高低の凹凸を有する、異方性材料を用いないホログラム素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 全体として透過光の偏光成分間の位相差が異なる複数の領域A、Bが基板11上に略周期的に形成された、入射光の偏光方向に依存して光路を切り替えるホログラム素子において、略周期的に形成された複数の領域A、Bの一周期(領域C)内で、少なくとも一つの領域Aが入射光の波長以下の一次元周期構造を有する凹凸形状12の形成領域であり、かつ凹凸形状12の形成領域には屈折率の異なる等方性媒質からなる多層膜13が屈折率の配列が周期的になるように積層されていることを特徴としている。
Claim (excerpt)：
入射光の偏光方向に依存して透過光の偏光成分間に位相差が生じる領域を含み、かつ全体として前記透過光の偏光成分間の位相差が異なる複数の領域が基板上に略周期的に形成された、前記入射光の偏光成分に依存して異なる回折効率を有するホログラム素子において、前記略周期的に形成された複数の領域の一周期内における少なくとも一つの前記領域が前記入射光の波長以下の一次元周期構造を有する凹凸形状の形成領域であり、かつ該凹凸形状の形成領域では屈折率の異なる等方性媒質からなる多層膜が該屈折率の配列が周期的になるように積層されていることを特徴とするホログラム素子。
IPC (3)：
G02B 5/30 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32
FI (3)：
G02B 5/30 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32
F-Term (17)：
2H049AA25 ,  2H049AA34 ,  2H049AA37 ,  2H049AA44 ,  2H049AA48 ,  2H049AA53 ,  2H049AA57 ,  2H049AA59 ,  2H049AA63 ,  2H049AA66 ,  2H049BA45 ,  2H049BB03 ,  2H049BB42 ,  2H049BC25 ,  2H049CA05 ,  2H049CA23 ,  2H049CA30
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM