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J-GLOBAL ID：200903011682606255

洗浄液、洗浄方法及び洗浄装置

Inventor： 渡部 慶二 ,  落合 正行 ,  山岸 康男 ,  井草 延夫 ,  高地 勇 ,  矢野 映
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994047414
Publication number (International publication number)：1995048599
Application date： Mar. 17, 1994
Publication date： Feb. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 塩素系溶剤に代り、かつはんだ後のフラックス残渣を完全に洗浄できる洗浄液を提供すること。【構成】 酸(好ましくは有機酸、特にアビエチン酸より強い酸、例、アクリル酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸)と有機溶剤(例、キシレン、酢酸ベンジル、α-ヒドロキシイソ酪酸メチル、シクロヘキサノン、β-メトキシイソ酪酸メチル)を含有し、必要に応じて1価アルコール、界面活性剤、腐食防止剤をさらに含む。洗浄後、洗浄液と混和性の溶剤でリンスして酸を完全に除すると好ましい。また、この洗浄のほか一般的に使用できる洗浄装置も開示される。

Claim (excerpt)：

構成成分として酸と有機溶剤を含有することを特徴とするフラックス洗浄液。

IPC (7)：

C11D 7/60 ,  B23K 1/00 ,  C23G 5/02 ,  C23G 5/032 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-146597
  
• 特開昭58-204100
  
• フラックス除去用洗浄剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-104880   Applicant：日東化学工業株式会社