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J-GLOBAL ID:200903011691201101

パターン検査方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992052087
Publication number (International publication number):1993272940
Application date: Mar. 11, 1992
Publication date: Oct. 22, 1993
Summary:
【要約】【目的】格子状に配置されたパターンの格子位置を自動的に検出し、格子位置を除去した画像を求め、パターン状の欠陥を検出する。【構成】被検査パターンの2値画像c1を画像メモリ回路4に記憶し、水平方向射影回路5で水平方向の各ライン毎に濃淡値を累積した信号d1から、垂直方向検査範囲検出回路7で、垂直方向の検査範囲求める。同様に、垂直方向射影回路6では垂直方向の各ライン毎に濃淡値を累積した信号e1から、水平方向検査範囲検出回路8で、水平方向の検査範囲を検出する。検査範囲作成回路9では、前記各方向の検査範囲より定められる矩形領域を検査範囲候補h1とし、それらの面積により、有効範囲判定回路11で、真の検査範囲j1を決定する。画像切り出し回路12において、検査範囲j1の示す領域を、画像メモリ回路4内の検査原画像k1から切り出し、欠陥を検出する。
Claim (excerpt):
格子状に配列された複数の被検査パターン上の欠陥を検出する検査方法において、光電変換スキャナーで撮像されたパターンの2値化画像に対し、水平方向の累積濃淡値及び垂直方向の累積濃淡値を求め、前記水平方向および垂直方向の累積濃淡値より格子の水平位置と垂直位置を求め、かつ前記水平位置及び垂直位置で区切られた各被検査パターン領域の面積を測定しあらかじめ設定された面積と一致する場合に、その領域を検査有効範囲とし、前記検査有効範囲を該前記2値化画像から切り出し、前記切り出した2値化画像の点を欠陥として検出することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (6):
G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/62 405 ,  G06F 15/64 ,  G06F 15/70 355 ,  H01L 21/66
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭61-292931

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