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J-GLOBAL ID:200903011698536010

重合性ブラシにおける高分子のアレイおよびそれを調製するための方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004165163
Publication number (International publication number):2004323859
Application date: Jun. 02, 2004
Publication date: Nov. 18, 2004
Summary:
【課題】 高密度高分子アレイについて、種々のアッセイ条件下でよいまたは改良された性能を有させること。【解決手段】 高分子の固相合成に用いるための重合性ブラシ基材を調製する方法であって、以下の工程: (a)1以上のフリーラジカルイニシエーターが共有結合している基材を提供する工程であって、ここで、各フリーラジカルイニシエーターが、該基材から遠位にラジカル生成部位を有する、工程;および (b)該共有結合した基材を、該イニシエーターのラジカル生成部位からのフリーラジカル重合を促進する条件下で、モノマーと接触させて、重合性ブラシを形成する工程、を包含する、方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
高分子アレイ合成を支持し得る基材であって、該基材は、フリーラジカル重合によって形成された重合体ブラシを含み、ここで、該重合体ブラシは、ヒドロキシル、アミノ、またはカルボキシル基あるいはそれらの組合せを含む、基材。
IPC (7):
C08F2/00 ,  C08F292/00 ,  C12M1/00 ,  C12N15/09 ,  G01N33/53 ,  G01N33/543 ,  G01N37/00
FI (7):
C08F2/00 C ,  C08F292/00 ,  C12M1/00 A ,  G01N33/53 M ,  G01N33/543 525G ,  G01N37/00 102 ,  C12N15/00 F
F-Term (23):
4B024AA11 ,  4B024CA01 ,  4B024CA09 ,  4B024CA11 ,  4B024HA11 ,  4B029AA07 ,  4B029AA23 ,  4B029BB20 ,  4B029CC08 ,  4B029FA15 ,  4J011BA05 ,  4J011BA07 ,  4J011BB02 ,  4J011BB10 ,  4J011CA02 ,  4J011CC07 ,  4J026AC00 ,  4J026BA29 ,  4J026BA30 ,  4J026BA32 ,  4J026BB01 ,  4J026DB12 ,  4J026FA08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • グラフト重合方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-097633   Applicant:富士ゼロックス株式会社
  • ポリマーブラシを介する表面上での分子の固定化
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2000-594947   Applicant:ビオヒプテヒノロギースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
  • 有機物品
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2000-547494   Applicant:ノバルティスアクチエンゲゼルシャフト
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