光学マスク及びその修正方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992042814
Publication number (International publication number)：1993241321
Application date： Feb. 28, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】位相シフトマスクの欠陥修正において、不定形の欠陥形状に対応し、精度の高い修正を可能とする光学マスクとその欠陥修正方法を提供する。【構成】位相シフターと遮光パターンとの間にエッチングストッパ層を設けるか、エッチングストッパ層の上層にマスク製造工程に含まれる洗浄工程に耐性を持つ保護膜を成膜するか、欠陥部を集束イオンビームで加工する。この際、集束イオンビームに反応性ガスを併用することでエッチングストッパ層で加工を停止するか、集束イオンビームでの加工後、エッチングストッパ層を選択的に除去するか、どちらかの方式を選択する。【効果】マスク製造工程に含まれる洗浄工程によるエッチングストッパ層溶解を回避し、位相シフター下層にストッパ層を残せるため、不定形の欠陥形状に対しても平坦な最終加工底面が得られる。

Claim (excerpt)：

透明基板上に遮光パターンを形成し、特定の開口部に露光光の位相を変える位相シフターを設けた投影光学系用マスクにおいて、上記位相シフターと遮光パターンとの間に露光光を透過するエッチングストッパー膜を設けたことを特徴とする光学マスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開平2-078216
特開平3-267940
特開平3-196041

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