変位測定装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西村教光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992260024
Publication number (International publication number)：1994109465
Application date： Sep. 29, 1992
Publication date： Apr. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】測定対象からの受光量に大幅な変動があっても高精度な変位測定を行えること。【構成】光源40の光は受光部41の位置検出素子41bで受光され、複数の異なる増幅率を有する増幅器A1,A2,A3,B1,B2,B3に入力される。各増幅器の出力は、例えば飽和しているもの、低増幅状態のもの、飽和せず高増幅状態のものとなる。選択手段1は、予め定められた設定値を設定手段2から読出し、飽和せず高増幅状態の増幅器を選択し、この増幅器の出力を後段の演算器に出力する。したがって、減算器43a,加算器43b、除算器44で構成される演算部は、常に最適な入力が得られ、測定対象の変位出力を高精度に行える。

Claim (excerpt)：

測定対象に測定用の投光ビームを投光する光源(40)と、測定対象から反射した光を集光する位置検出素子を有する受光部(41)とを有し、演算部の演算により測定対象の変位を測定する変位測定装置において、前記位置検出素子からの出力をそれぞれ異なる増幅率で増幅する複数の増幅器(Ak,Bk)と、予め定められた条件により前記増幅器のうち不飽和で最大増幅率を有する増幅器を選択する選択手段(1,4,10)と、該選択手段により選択された増幅器の出力に基づき変位測定のための所定の演算を行う演算部と、を有することを特徴とする変位測定装置。

IPC (2)：

G01C 3/06 , G01B 11/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭63-154911
特開昭63-255610
特開平3-209121

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