Pat
J-GLOBAL ID：200903011721690935
マイクロ波プラズマ処理装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992342007
Publication number (International publication number)：1994196475
Application date： Dec. 22, 1992
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：
【要約】【目的】 プラズマによる電気的なダメージや汚染が被処理物に生じることがなく、均一性の高い処理が被処理物に行われるマイクロ波プラズマ処理装置を実現すること。【構成】 導波管にて伝送されるマイクロ波を用いて処理室内にプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ処理装置において、前記導波管と前記処理室との間に、導波管にて伝送されたマイクロ波を分配して処理室へ供給するためのマイクロ波分配用空胴共振部が設けられている。
Claim (excerpt)：
導波管にて伝送されるマイクロ波を用いて処理室内にプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ処理装置において、前記導波管と前記処理室との間に、導波管にて伝送されたマイクロ波を分配して処理室へ供給するためのマイクロ波分配用空胴共振部が設けられていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (7)：
H01L 21/31
, C23C 14/34
, C23F 4/00
, G03F 7/36
, H01L 21/027
, H01L 21/302
, H05H 1/46
