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J-GLOBAL ID：200903011774626147

ポジ型ホトレジスト塗布液

Inventor： 大野 勇人 ,  中緒 卓 ,  原田 尚宣 ,  秀坂 慎一 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996040461
Publication number (International publication number)：1997211845
Application date： Feb. 02, 1996
Publication date： Aug. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】本発明は、塗布性、感度、耐熱性、焦点深度幅特性、プロファイル形状などの特性に優れている上に、現像残渣の発生がなく、かつ残膜率が高いポジ型レジスト塗布液を提供すること。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基含有化合物、及び有機溶剤を含有するポジ型レジスト塗布液において、前記有機溶剤がプロピレングリコールモノプロピルエーテルケと2-ヘプタノンとを含有する混合溶剤であることを特徴とするポジ型レジスト塗布液。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)キノンジアジド基含有化合物、及び(c)有機溶剤を含有するポジ型ホトレジスト塗布液において、前記有機溶剤が(イ)プロピレングリコールモノプロピルエーテルと(ロ)2-ヘプタノンとを含有することを特徴とするポジ型ホトレジスト塗布液。

IPC (6)：

G03F 7/004 501 ,  C09D 5/00 PNV ,  C09D 11/00 PTE ,  C09D161/04 PHC ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 501 ,  C09D 5/00 PNV ,  C09D 11/00 PTE ,  C09D161/04 PHC ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R