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J-GLOBAL ID：200903011779965080

残留塩素計の洗浄方法

Inventor： 伊達 浩嗣 ,  山元 良浩
Applicant, Patent owner： 株式会社タクミナ
Agent (1)： 藤本 昇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998143900
Publication number (International publication number)：1999333460
Application date： May. 26, 1998
Publication date： Dec. 07, 1999
Summary：

【要約】【課題】 電極を効果的に洗浄することが可能であり、低い濃度の測定を正確に行うことが可能である残留塩素計の洗浄方法を提供することを課題とする。【解決手段】 残留塩素計の測定手段を構成している一対の電極の極性を反転させる電極反転処理工程13を備えた残留塩素計の洗浄方法において、前記電極反転処理工程13の後に、残留塩素濃度の測定時に印可される電圧を前記電極に所定時間印可する後処理工程14が行われる残留塩素計の洗浄方法とする。

Claim (excerpt)：

残留塩素計の測定手段を構成している一対の電極の極性を反転させる電極反転処理工程(13)を備えた残留塩素計の洗浄方法において、前記電極反転処理工程(13)の後に、残留塩素濃度の測定時に印可される電圧を前記電極に所定時間印可する後処理工程(14)が行われることを特徴とする残留塩素計の洗浄方法。