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J-GLOBAL ID：200903011838083851

紫外線洗浄方法

Inventor： 石橋 紀雄
Applicant, Patent owner： 株式会社オーク製作所
Agent (1)： 渡辺 一豊
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992098687
Publication number (International publication number)：1993271973
Application date： Mar. 25, 1992
Publication date： Oct. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 被洗浄物の表面酸化を防止するとともに、湿式洗浄の効果を高めることのできる紫外線洗浄方法を提供する。【構成】 被洗浄物1に水等の液体2を介して紫外線4を照射する。その場合、例えば被洗浄物1及び紫外線ランプ3を液体2中に配置する。これにより、被洗浄物1表面が、酸化の原因となる活性酸素に対して液体により遮断され、酸化が防止される。

Claim (excerpt)：

被洗浄物(1) に水等の液体(2) を介して紫外線(4) を照射することを特徴とする紫外線洗浄方法。

IPC (3)：

C23G 5/00 ,  B08B 3/04 ,  A61L 2/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭60-143884
  
• 特開平3-225825
  
• 特開昭61-220434
  
• 特開平2-144914