Pat
J-GLOBAL ID:200903011847642154

抗日光化粧品組成物およびその使用方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995133072
Publication number (International publication number):1995330565
Application date: May. 31, 1995
Publication date: Dec. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】 光防御力と化粧品特性とが改良された抗日光化粧品組成物を提供する。【構成】 化粧品に許容されるビヒクル中に、(i)遮蔽剤として2,4,6-トリス[p-((2'エチルヘキシル)オキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジンと、(ii)それのみで該遮蔽剤の全てを溶解するに充分な量のジオクチルマラートとを含有することを特徴とする。
Claim (excerpt):
化粧品に許容されるビヒクル中に、(i)遮蔽剤として2,4,6-トリス[p-((2'エチルヘキシル)オキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジンと、(ii)それのみで該遮蔽剤の全てを溶解するに充分な量のジオクチルマラートとを含有することを特徴とする、皮膚および/または髪の光防御等のための局所使用用化粧品組成物。
IPC (9):
A61K 7/42 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/11 ,  C09K 3/00 104 ,  C07D251/70
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-226909

Return to Previous Page