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J-GLOBAL ID：200903011860228847

感光性組成物

Inventor： 親里 直彦 ,  大西 廉伸 ,  仁木 博一 ,  早瀬 留美子 ,  小林 嘉仁
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992238253
Publication number (International publication number)：1994083059
Application date： Sep. 07, 1992
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】安定性に優れ、高感度且つ高解像性であり、良好な断面形状を有する微細なレジストパターンを形成することの可能な感光性組成物を提供する。【構成】フェノール骨格を有するアルカリ可溶性重合体のフェノール性水酸基に、下記一般式(1)で表される酸に対して不安定な溶解抑止基が結合してなる重合体と、光照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とする。【化1】(式中、R1 は置換ないし非置換の炭化水素基を、R2 及びR3 は夫々独立に水素、置換ないし非置換の炭化水素基、または極性基を、nは正の整数を表す。但し、nが1であり且つR2 及びR3 が同時に水素であるとき、R1 は炭素数5以上の炭化水素基である。)【効果】露光部と未露光部のアルカリ溶解性の差が非常に大きく、高解像度のパターンを形成することができる。

Claim (excerpt)：

(a)フェノール骨格を有するアルカリ可溶性重合体のフェノール性水酸基に、下記一般式(1)で表される酸に対して不安定な溶解抑止基が結合してなる重合体と、【化1】(式中、R1 は置換ないし非置換の炭化水素基を、R2 及びR3 は夫々独立に水素、置換ないし非置換の炭化水素基、または極性基を、nは正の整数を表す。但し、nが1であり且つR2 及びR3 が同時に水素であるとき、R1 は炭素数5以上の炭化水素基である。)(b)光照射により酸を発生する化合物と、を含有する感光性組成物。

IPC (7)：

G03F 7/039 501 ,  C08L 61/14 LMR ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-289659
  
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-352756   Applicant：和光純薬工業株式会社
• 特開平3-289659