偏光解析装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003411786
Publication number (International publication number)：2005114704
Application date： Dec. 10, 2003
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：

【課題】駆動部が無く、小型で高速な偏光解析装置およびエリプソメータを提供する。【解決手段】偏光子の光軸が互いに異なるストライプ状の領域を有する偏光子アレイ1枚と、リターデーションが一定で光軸が互いに異なるストライプ状の領域を有する波長板アレイ1枚とを、互いのストライプが直交するように重ね、マトリックス状の交差部分を通過した光の強度をそれぞれ個別に計測できるような受光素子アレイを配置する。または、偏光子の光軸が互いに異なるストライプ状の領域を有する偏光子アレイ1枚と、光軸方向が一定で位相差が互いに異なるストライプ状の領域を有する波長板アレイを1枚とを、互いのストライプが直交するように重ね、マトリックス状の交差部分を通過した光の強度をそれぞれ個別に計測できるような受光素子アレイを配置する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

透過光に与える位相差は一様で光軸方向が異なる複数の領域を有する波長板アレイと、透過する偏波の方向が異なる複数の領域を有する偏光子アレイとを有し、前記の波長板アレイと前記の偏光子アレイがそれぞれ重なるように配置され、前記波長板の特定の領域と前記偏光子の特定の領域を通過した光を個別に受光することのできるような受光素子アレイを配置したことを特徴とする偏光解析装置。

IPC (3)：

G01J4/04 , G01N21/21 , G02B5/30

FI (3)：

G01J4/04 Z , G01N21/21 Z , G02B5/30

F-Term (20)：

2G059AA02 , 2G059BB10 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059EE11 , 2G059GG01 , 2G059GG03 , 2G059GG04 , 2G059JJ11 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059KK04 , 2G059LL04 , 2H049BA02 , 2H049BA06 , 2H049BA43 , 2H049BA45 , 2H049BB03 , 2H049BC01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

エリプソパラメータ測定方法及びエリプソメータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-263690 Applicant：日本鋼管株式会社
3次元周期構造体及びその作製方法並びに膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-040736 Applicant：川上彰二郎
偏光子とその作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-216152 Applicant：川上彰二郎

Cited by examiner (2)

特開平4-147040
偏光計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-305680 Applicant：浜本哲也, 科学技術振興事業団

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