超純水製造用膜分離装置の洗浄方法及び洗浄装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内山充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002224749
Publication number (International publication number)：2004066015
Application date： Aug. 01, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：

【課題】電子材料の製造工場などで使用される超純水中へのアミンの溶出を効果的に防止し、純度の極めて高い超純水を安定して供給することができる超純水製造用膜分離装置の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。【解決手段】粒径0.05μm以上の微粒子数が1個/mL以下、TOC濃度が2μgC/L以下、抵抗率が18.2MΩ・cm以上の超純水を洗浄水とし、該洗浄水を超純水製造用膜分離装置に通水する通水工程と、膜分離装置に洗浄水を保持したまま通水を停止する浸漬工程と、膜分離装置から洗浄水を排出する排出工程とを有する洗浄サイクルを繰り返す超純水製造用膜分離装置の洗浄方法、及び、洗浄水供給配管、透過水排出配管、濃縮水排出配管を有し、洗浄水供給配管に弁と流量調整手段が、透過水排出配管に弁が、濃縮水排出配管に弁がそれぞれ設けられるとともに、洗浄水供給配管に分岐して弁を有するブロー水配管が接続されてなる超純水製造用膜分離装置の洗浄装置。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

粒径0.05μm以上の微粒子数が1個/mL以下、TOC濃度が2μgC/L以下、抵抗率が18.2MΩ・cm以上の超純水を洗浄水とし、該洗浄水を超純水製造用膜分離装置に通水する通水工程と、該膜分離装置に洗浄水を保持したまま通水を停止する浸漬工程と、該膜分離装置から洗浄水を排出する排出工程とを有する洗浄サイクルを繰り返すことを特徴とする超純水製造用膜分離装置の洗浄方法。

IPC (3)：

B01D65/06 , B01D65/02 , C02F1/44

FI (3)：

B01D65/06 , B01D65/02 520 , C02F1/44 J

F-Term (21)：

4D006GA03 , 4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006HA01 , 4D006JA39Z , 4D006JA55Z , 4D006JA63Z , 4D006JA71 , 4D006KA81 , 4D006KC13 , 4D006KC14 , 4D006KC20 , 4D006KE11R , 4D006KE19R , 4D006KE28R , 4D006KE30R , 4D006MA01 , 4D006MC62X , 4D006PA01 , 4D006PB02 , 4D006PC01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

逆浸透膜および逆浸透膜分離素子の処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-228752 Applicant：東レ株式会社
特開平4-305231
特開平4-305231

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