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J-GLOBAL ID：200903011938722339
洗浄装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991232280
Publication number (International publication number)：1993047735
Application date： Aug. 20, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 被処理体を洗浄あるいは乾燥を行う際に、その表面の不純物を効果的に除去し、表面に光による電子あるいは正孔の励起由来の不純物付着を起こさせず、表面に自然酸化膜等の変質を起こさせず、乾燥しようとする液体をいっさい残さず、静電気を発生させず、微粒子付着のない洗浄が可能な洗浄装置を提供することを目的とする。【構成】 被処理体が、洗浄に用いられる薬液あるいは超純水に接する部分に、光を遮断する容器を設け、さらに、容器内に不活性なガスを供給する手段と、ガスに紫外線を照射する手段を設けている。
Claim (excerpt)：
被処理体を洗浄または乾燥する装置において、少なくとも、被処理体が、洗浄に用いられる薬液あるいは超純水に接する部分に、光を遮断する機能を有し、内部雰囲気を置換可能な容器を設け、さらに、前記容器内に不活性なガスを供給する手段と、前記ガスを被乾燥物に向けて吹き付けることで被乾燥物を乾燥するための手段と、前記ガスの少なくとも一部に紫外線を照射するための照射手段を設けたことを特徴とする洗浄装置。
IPC (3)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304 361
Cited by examiner (5)
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