Pat

J-GLOBAL ID：200903011944560618

研磨方法

Inventor： 岡本 明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997028733
Publication number (International publication number)：1998216554
Application date： Feb. 13, 1997
Publication date： Aug. 18, 1998
Summary：

【要約】【課題】回収再生した水を装置等の冷却水や加工部品等の洗浄水として用い、また、廃水等から分離した有害物等の濃縮液を高温加熱処理することで無害化し、セメント材料等にリサイクルする。【解決手段】基板の被処理品を研磨材等が含有した処理液を用いて研磨や洗浄等の表面処理を行なう方法において、上記被処理品の表面処理工程から排出される研磨材が混入した排出水を回収し、該排出水から任意の粒径の研磨粒子と水とを各々分離・再生する手段を具備し、各々再生した該任意の粒径の研磨材と該再生水を該ポリシング装置の表面処理液供給部に戻し、適正な表面処理液組成に調整後循環使用する。

Claim (excerpt)：

基板の被処理品を研磨材等が含有した処理液を用いて研磨や洗浄等の表面処理を行なう方法において、上記被処理品の表面処理工程から排出される研磨材等が混入した排出水を回収し、該排出水から任意の粒径の研磨粒子と水とを各々分離・再生する手段を具備し、各々再生した該任意の粒径の研磨材と該再生水を該ポリシング装置の表面処理液供給部に戻し、適正な表面処理液組成に調整後循環使用することを特徴とする研磨方法。

IPC (4)：

B03B 5/00 ,  B24B 57/00 ,  H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304

FI (4)：

B03B 5/00 Z ,  B24B 57/00 ,  H01L 21/304 321 M ,  H01L 21/304 321 A