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J-GLOBAL ID：200903011986224120

現像装置

Inventor： 江口 公平
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 國分 孝悦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994168990
Publication number (International publication number)：1996017717
Application date： Jun. 28, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 半導体基板上で均一なフォトレジストパターンを形成し得る現像装置を提供する。【構成】 水平面から所定角度傾斜して保持される液流板10と、液流板10上の適所に現像液100を滴下する現像液供給ノズル15と、半導体基板3の表面が液流板10の表面と同一平面上になるように半導体基板3を液流板10に対して保持する基板保持手段4と、を備えている。現像液100及び水は、傾斜した液流板10とほぼ同一平面上に設置された半導体基板3の表面上を、その半導体基板3に接触しながら流れるため、半導体基板3の表面に局部的な圧力がかからない。半導体基板3にて現像が均一に進行し、この結果、半導体基板3上のフォトレジストのパターン寸法や断面形状が格段に均一化する。

Claim (excerpt)：

水平面から所定角度傾斜して保持される液流板と、この液流板上の適所に現像液を滴下する現像液供給ノズルと、半導体基板の表面が前記液流板の表面と同一平面上になるように前記半導体基板を前記液流板に対して保持する基板保持手段と、を備えたことを特徴とする現像装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03G 15/06 102

FI (2)：

H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/30 569 F