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J-GLOBAL ID：200903012013088539

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999321348
Publication number (International publication number)：2001142213
Application date： Nov. 11, 1999
Publication date： May. 25, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 現像の際の現像欠陥発生及びスカムの発生の問題を解消したポジ型フォトレジスト組成物及び疎密依存性に優れ、かつパターンのエッジラフネスが改良された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに(B)(I-1)〜(I-4)の少なくともいずれかで表される基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及び(C)フツ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有する。R1〜R5は同じでも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1〜R5の内の2つは、結合して環を形成してもよい。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに(B)下記一般式(I-1)〜(I-4)の少なくともいずれかで表される基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及び(C)フツ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I-1)〜(I-4)中;R1〜R5は同じでも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1〜R5の内の2つは、結合して環を形成してもよい。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (17)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20