Pat
J-GLOBAL ID：200903012159162340
リソグラフィー用ペリクル膜
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
酒井 一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992027998
Publication number (International publication number)：1993224400
Application date： Feb. 14, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：
【要約】【構成】 下記一般式化1で表わされるフマル酸ジエステル単位を含む重合体からなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル膜。【化1】【効果】 本発明のペリクル膜は、均一な薄膜であり、波長250nmまでの可視光及び紫外光領域において極めて良好な透過性を有しており、g線(波長436nm)、i線(波長365nm)等のマイクロリソグラフィー用光源及びエキシマレーザー等の短波長光源に対応できる。しかも本発明のペリクル膜は耐溶剤性に優れているので、表面の埃を除去するためのメタノール洗浄に対しても十分な耐性を有しているため繰返し使用することが可能である。
Claim (excerpt)：
下記一般式化1で表わされるフマル酸ジエステル単位を含む重合体からなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル膜。【化1】
IPC (3)：
G03F 1/14
, C08F222/14 MMH
, H01L 21/027
