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J-GLOBAL ID：200903012165156939

欠陥または異物の検査方法及びその装置

Inventor： 野口 稔 ,  宍戸 弘明 ,  小泉 光義 ,  秋山 伸幸 ,  中田 俊彦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998057008
Publication number (International publication number)：1998206339
Application date： Oct. 24, 1988
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】実害になる異物又は欠陥を任意の角度で存在するパターンから分離して検出可能とする欠陥または異物の検査方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】試料上に形成されたパターンを対物レンズを有する検出光学系を介して検査する装置を、パターンを対物レンズを介して照明する第1の照明手段と、パターンを試料の裏面からリレーレンズを介して照射する第2の照明手段と、第1の照明手段と第2の照明手段との照明によるパターンからの反射光のうち0次回折光を遮光して検出してパターンの画像信号を得る画像検出手段と、この画像検出手段で得た画像信号に基いて欠陥または異物を検出する欠陥または異物検出手段と、この異物検出手段で検出した欠陥または異物に関する情報を表示する表示手段とを備えて構成した。

Claim (excerpt)：

光を透過する基板上に形成されたパターンを検出光学系を介して検査する方法であって、前記パターンを前記検出光学系の対物レンズを介して照明すると共に前記パターンを前記基板の裏面からコリメータレンズを介して照明し、前記対物レンズを介した照明と前記裏面から前記コリメータレンズを介した照明とによる前記パターンからの反射光を0次回折光を遮光して検出して画像信号を得、該検出した画像信号をあらかじめ記憶した基準となる画像信号と比較することにより欠陥または異物を検出し、該検出した欠陥または異物に関する情報を画面上に表示することを特徴とする欠陥または異物の検査方法。

IPC (2)：

G01N 21/88 ,  H01L 21/66

FI (2)：

G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭51-030354
  
• 特開昭60-244029
  
• 特開昭59-202633