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J-GLOBAL ID：200903012168947651

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法

Inventor： 加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  橋本 通晰 ,  逆水 登志夫 ,  白石 洋
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社 ,  株式会社日立製作所
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995310179
Publication number (International publication number)：1997152715
Application date： Nov. 29, 1995
Publication date： Jun. 10, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 高感度、高解像度でかつ高耐熱性のポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及び解像度の良好なレジストパターンを現出することができるレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)一般式(I)で表されるポリフェノール化合物あるいは一般式(II)で表されるポリフェノール化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有するビニル重合体を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物並びにこのポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物の塗膜を、活性化学線で照射し、ついで現像するレジスト像の製造法。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)一般式(I)【化1】(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素、炭素数1〜4のアルキル基、アリール基またはフェノール性水酸基を有するアリール基を示し、R3及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を示し、f及びgはそれぞれ独立に0、1または2であり、h及びiはそれぞれ独立に1、2または3である)で表されるポリフェノール化合物あるいは一般式(II)【化2】(式中、R5及びR6はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を示し、j及びkはそれぞれ独立に0、1または2であり、l及びmはそれぞれ独立に1、2または3である)で表されるポリフェノール化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有するビニル重合体を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F