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J-GLOBAL ID：200903012170927781

処理システム及び被処理体の予熱方法

Inventor： 佐伯 弘明 ,  成島 正樹
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001060968
Publication number (International publication number)：2002261148
Application date： Mar. 05, 2001
Publication date： Sep. 13, 2002
Summary：

【要約】【課題】 被処理体の処理能力に対してデガス処理を効率的に行うことが可能な処理システムを提供する。【解決手段】 被処理体Wに対して所定の処理を行う複数の処理装置32A〜32Fと、前記複数の処理装置に共通に接続された共通搬送室34と、前記共通搬送室内に設けられて前記処理装置との間で前記被処理体を搬送するための第1及び第2の2つの搬送手段40、42と、前記共通搬送室内であって前記2つの搬送手段のそれぞれの搬送範囲が重なる範囲内に設置された少なくともデガス機能を有するバッファ部50、52と、前記共通搬送室に接続されて少なくともデガス機能を有する真空引き可能になされたロードロック室36A、36Bと、前記ロードロック室に接続された導入側搬送室38と、前記導入側搬送室内に設けられて、前記被処理体を複数収容するカセットと前記ロードロック室との間で前記被処理体を搬送する導入側搬送手段130とを備える。これにより、被処理体の処理能力に対してデガス処理を効率的に行う。

Claim (excerpt)：

被処理体に対して所定の処理を行う複数の処理装置と、前記複数の処理装置に共通に接続された共通搬送室と、前記共通搬送室内に設けられて前記処理装置との間で前記被処理体を搬送するための第1及び第2の2つの搬送手段と、前記共通搬送室内であって前記2つの搬送手段のそれぞれの搬送範囲が重なる範囲内に設置された少なくともデガス機能を有するバッファ部と、前記共通搬送室に接続されて少なくともデガス機能を有する真空引き可能になされたロードロック室と、前記ロードロック室に接続された導入側搬送室と、前記導入側搬送室内に設けられて、前記被処理体を複数収容するカセットと前記ロードロック室との間で前記被処理体を搬送する導入側搬送手段とを備えたことを特徴とする処理システム。

IPC (4)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (4)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

F-Term (44)：

5F004AA16 ,  5F004BA00 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F004BC08 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031FA15 ,  5F031GA03 ,  5F031GA43 ,  5F031GA48 ,  5F031GA50 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA40 ,  5F031JA02 ,  5F031JA15 ,  5F031JA28 ,  5F031JA34 ,  5F031JA35 ,  5F031KA08 ,  5F031KA12 ,  5F031LA07 ,  5F031MA04 ,  5F031MA06 ,  5F031MA09 ,  5F031MA30 ,  5F031NA02 ,  5F031NA04 ,  5F031NA08 ,  5F031NA09 ,  5F031PA03 ,  5F045AA03 ,  5F045AA20 ,  5F045BB20 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB08 ,  5F045EN04 ,  5F045EN06 ,  5F045HA24