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J-GLOBAL ID:200903012177413236
ナノメートルスケールの細孔のある膜を形成するための装置及び方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山崎 行造 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2001538280
Publication number (International publication number):2003514677
Application date: Nov. 17, 2000
Publication date: Apr. 22, 2003
Summary:
【要約】ナノメートルスケールの細孔のある膜を形成する方法が、基材上に防食エッチング止め層を形成することを含む。ベース層は、防食エッチング止め層上に構成される。マイクロメートルスケールの細孔がベース層内に形成される。防食ベース層がベース層上に形成される。防食ベース層は、ナノメートルスケールの細孔を前記ベース層内部に限定するため、ベース層の選択された領域から取除かれる。得られた膜は、その内部に形成されたサブ50ナノメートルの細孔を有する。
Claim (excerpt):
ナノメートルスケールの細孔のある膜を形成する方法であって、該方法が、 基材に防食エッチング止め層を形成すること、 前記防食エッチング止め層にベース層を構成すること、 前記ベース層に防食ベース層を形成すること、及び ナノメートルスケールの細孔を前記ベース層内部に規定するため前記ベース層の選択された領域から前記防食ベース層を取除くこと、工程を含む方法。
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