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J-GLOBAL ID：200903012178466376

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法

Inventor： 粕谷 圭 ,  加藤 幸治 ,  木村 忠広 ,  橋本 政弘 ,  橋本 通晰
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997288419
Publication number (International publication number)：1999125905
Application date： Oct. 21, 1997
Publication date： May. 11, 1999
Summary：

【要約】【課題】 紫外線、遠紫外線、X線、電子線などの放射線のパタン状照射によりパタン潛像形成部に酸を発生させ、この酸を触媒とする反応によって、当該照射部と未照射部のアルカリ現像液に対する溶解性を変化させ、パターンを現出させるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物において、高感度、高解像度でかつ耐熱性の優れたポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及び解像度、耐熱性の良好なレジストパターンを現出することができるレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (a)2,5-キシレノール及び他のフェノール化合物とアルデヒド化合物を縮合反応させて得られるアルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(c)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物並びにこのポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物の塗膜を、活性化学線で照射し、ついで現像することを特徴とするレジスト像の製造法。

Claim (excerpt)：

(a)2,5-キシレノール及び他のフェノール化合物とアルデヒド化合物を縮合反応させて得られるアルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(c)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 R