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J-GLOBAL ID：200903012182310038

レーザ光によるパターン刻印方法

Inventor： 宮内 建興 ,  水越 克郎 ,  本郷 幹雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993061587
Publication number (International publication number)：1994043628
Application date： Sep. 07, 1979
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】レーザ発振器から出射されるビーム径より大きな透過形液晶表示装置上の領域に所望の拡大原画像を表示して、損傷なく、交換しないで、即時新しい拡大原画に入れかえてタイミングよく透過レーザ光として試料面上に縮小投影照射して除去加工して転写刻印できるようにしたパターン刻印方法を提供する。【構成】記憶部(信号制御部)11に記憶させた原画情報を拡大または縮小させて所望の原画を透過形液晶表示装置10に駆動表示し、制御信号によりレーザ発振器1からレーザ光を照射し、これに表示された所望の原画全域に亘ってパワー密度が104W/cm2以下でこの面に対してほぼ垂直に入射させ、10に表示された所望の原画を投影レンズで試料7上に縮小投影して除去加工して刻印することを特徴とするレーザ光によるパターン刻印する。

Claim (excerpt)：

入力部に入力された原画情報に基づいて所望の原画を透過形液晶表示装置に駆動表示し、制御信号によりレーザ発振器からレーザ光を照射し、該照射されるレーザ光を前記透過形液晶表示装置に表示された所望の原画全域に亘ってパワー密度が104W/cm2以下で前記透過形液晶表示装置の面に対してほぼ垂直に入射させ、前記透過形液晶表示装置に表示された所望の原画を投影レンズで試料上に縮小投影して除去加工して刻印することを特徴とするレーザ光によるパターン刻印方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特公昭50-035275
  
• 特開昭51-087970