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J-GLOBAL ID：200903012186631149
ドライエッチング装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994013888
Publication number (International publication number)：1994295882
Application date： Feb. 08, 1994
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：
【要約】【目的】 メンテナンスの周期が長く、メンテナンス時間の短い高稼働率のドライエッチング装置を提供することを目的とする。【構成】 二系統からなる排気系を有し、その一方の系統には冷却水循環配管 1515 で冷却された着脱可能な凹形状の配管 1513 を配置し、反応生成物を積極的に堆積させる。規定堆積膜厚に達したときに警報を発した後、本排気系を遮断し、他方の系統の排気系へ自動で切り換える。したがって、メンテナンス周期が正確に規定でき、配管メンテナンスも着脱可能な配管 1513 のみを予備配管に交換するだけで良く、メンテナンス時間が短縮される。また、配管 1513 のメンテナンス時にも連続してエッチング処理が可能で高稼働率が達成できる。
Claim (excerpt)：
真空反応室内の被エッチング物を保持するステージをヒーターあるいは温度調節された液体を用いて所望する温度に制御し、前記真空反応室内壁、エッチング終点信号検出用窓、および真空反応室内に設けられた各部品をエッチングガスと被エッチング物により生成される反応生成物の蒸発温度以上に制御する温度制御手段を設けたドライエッチング装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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