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J-GLOBAL ID：200903012240425630

フォトマスク及びその製造方法

Inventor： 横山寿文 ,  松本真佐美 ,  宮下裕之
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996256559
Publication number (International publication number)：1998104815
Application date： Sep. 27, 1996
Publication date： Apr. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】 位相シフトフォトマスクの位相差に起因する歩留まりを向上させる。【解決手段】 フォトマスクをパターニング後、フッ酸蒸気又はフッ酸を主成分とする溶液の蒸気によりフォトマスクのガラス部1又は位相シフター部をエッチングする。フォトマスクとしては、ハーフトーン型位相シフトフォトマスク、レベンソンタイプ位相シフトフォトマスクが可能である。

Claim (excerpt)：

フッ酸蒸気又はフッ酸を主成分とする溶液の蒸気により、フォトマスクのガラス部又は位相シフター部がエッチングされていることを特徴とするフォトマスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (4)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528 ,  H01L 21/302 P