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J-GLOBAL ID：200903012244873077

カルバシラトラン誘導体、その製造方法、接着促進剤、および硬化性シリコーン組成物

Inventor： 大西 正之 ,  畑中 秀克 ,  福谷 芳美
Applicant, Patent owner： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997154437
Publication number (International publication number)：1998195085
Application date： May. 28, 1997
Publication date： Jul. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】 新規なカルバシラトラン誘導体、その製造方法、この誘導体からなる接着促進剤、およびこの促進剤を含む硬化性シリコーン組成物を提供する。【解決手段】 一般式:【化1】{式中、R1はアルキル基またはアルコキシ基であり、R2は同じかまたは異なる一般式:【化2】(式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R6はアルキル基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、aは0、1、または2である。)で表される基からなる群から選択される基であり、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基である。}で表されるカルバシラトラン誘導体、この誘導体の製造方法、この誘導体からなる接着促進剤、この促進剤を含む硬化性シリコーン組成物。

Claim (excerpt)：

一般式:【化1】{式中、R1はアルキル基またはアルコキシ基であり、R2は同じかまたは異なる一般式:【化2】(式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R6はアルキル基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、aは0、1、または2である。)で表される基からなる群から選択される基であり、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基である。}で表されるカルバシラトラン誘導体。

IPC (2)：

C07F 7/18 ,  C09J183/08

FI (2)：

C07F 7/18 V ,  C09J183/08