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J-GLOBAL ID：200903012276273128
ポジ型レジスト組成物
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995091280
Publication number (International publication number)：1996262710
Application date： Mar. 24, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：
【要約】【目的】 感度・解像度・残膜率・パターン形状・保存安定性に優れたレジスト組成物を提供する。【構成】 (A)2、4、6位のうち何れか二つに置換基のあるフェノール化合物および当該フェノール化合物類以外の1種類以上のフェノール化合物とアルデヒド類とを酸触媒存在下縮合して得られるアルカリ可溶性樹脂と(B)キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤を含有するポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式(I)で表される1種類以上のフェノール化合物および当該フェノール化合物類以外の1種類以上のフェノール化合物とアルデヒド類とを酸触媒存在下縮合して得られるアルカリ可溶性樹脂と(B)キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1は、水素原子、置換可アルキル基、置換可シクロアルキル基、置換可アリール基である。R2〜R6は、互いに独立に水素原子、ハロゲン原子、置換可アルキル基、置換可シクロアルキル基であり、かつ、R2、R4、R6のいずれか1つは水素原子であるが2つ以上が同時に水素原子となることはない。)
IPC (2)：
FI (2)：
G03F 7/022
, H01L 21/30 502 R
