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J-GLOBAL ID：200903012279143047

真空紫外光の測定方法、真空紫外光の測定装置、デバイス製造方法及び光露光装置

Inventor： 鈴木 徹 ,  若林 理
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Agent (1)： 宇都宮 正明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000083106
Publication number (International publication number)：2001272273
Application date： Mar. 24, 2000
Publication date： Oct. 05, 2001
Summary：

【要約】【課題】 真空紫外光の測定に使用される光学系の位置調整を簡単に行うことができ、真空紫外光の測定に素早く移行することができる真空紫外光の測定方法等を提供することを目的とする。【解決手段】 ArSHGレーザ光をアクロマートレンズ12に通す第1の工程と、アクロマートレンズ12に通したArSHGレーザ光がCCDセンサ13に結像するように、アクロマートレンズ12の位置を調整する第2の工程と、第2の工程後に、アクロマートレンズ12とCCDセンサ13を収容するパージボックス11内を窒素パージする第3の工程と、第3の工程後に、F2レーザ光をアクロマートレンズ12に通しCCDセンサ13に結像させて測定する第4の工程とを具備している。

Claim (excerpt)：

波長が190nmよりも長い通常光を光学系に通す第1の工程と、前記光学系に含まれる色消しレンズであって、螢石から製作される単レンズと、フッ素がドープされた合成石英から製作される単レンズとを、通常光及び波長が190nm以下の真空紫外光に対する色消し条件を満たすように組み合わせて成る前記色消しレンズの位置を、前記光学系に通した通常光が受光素子に結像するように調整する第2の工程と、前記第2の工程後に、前記光学系と前記受光素子を収容する筐体内を真空引きするか又は窒素パージする第3の工程と、前記第3の工程後に、真空紫外光を前記光学系に通して前記受光素子に結像させて測定する第4の工程と、を具備することを特徴とする真空紫外光の測定方法。

IPC (6)：

G01J 1/02 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00

FI (8)：

G01J 1/02 G ,  G01J 1/02 L ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01S 3/00 G ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 C

F-Term (41)：

2G065AA04 ,  2G065AA11 ,  2G065AB05 ,  2G065AB09 ,  2G065AB24 ,  2G065BA04 ,  2G065BA09 ,  2G065BA33 ,  2G065BA34 ,  2G065BA36 ,  2G065BA38 ,  2G065BB05 ,  2G065BB06 ,  2G065BB23 ,  2G065BB28 ,  2G065BB30 ,  2G065BB49 ,  2G065BC23 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA13 ,  2H097CA17 ,  2H097EA01 ,  2H097LA10 ,  5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CA03 ,  5F046CA08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F072AA04 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK02 ,  5F072KK07 ,  5F072KK08 ,  5F072KK12 ,  5F072KK30 ,  5F072QQ02 ,  5F072YY09