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J-GLOBAL ID：200903012300091885

近接場プローブ及び近接場プローブ作成方法

Inventor： 鈴木 良政 ,  富永 淳二 ,  阿刀田 伸史
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  オリンパス光学工業株式会社
Agent (2)： 鈴江 武彦 (外1名) ,  鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999232710
Publication number (International publication number)：2001056279
Application date： Aug. 19, 1999
Publication date： Feb. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】本発明は、再現性良く開口を形成すると共に、走査時に開口の変化が生じないようにした近接場プローブ及びその作成方法を提供する。【解決手段】本発明の一態様によると、近接場顕微鏡または近接場光記録装置に用いられる、先端及び側面が金属または半金属でコートされたプローブであり、上記コートは先端部分において、固相拡散によって形成した開口を有することを特徴とする近接場プローブが提供される。

Claim (excerpt)：

近接場顕微鏡または近接場光記録装置に用いられる、先端及び側面が金属または半金属でコートされたプローブであり、上記コートは先端部分において、固相拡散によって形成した開口を有することを特徴とする近接場プローブ。

IPC (5)：

G01N 13/14 ,  G01B 11/30 ,  G01N 13/10 ,  G11B 7/135 ,  G11B 21/06

FI (5)：

G01N 13/14 B ,  G01B 11/30 Z ,  G01N 13/10 G ,  G11B 7/135 A ,  G11B 21/06

F-Term (17)：

2F065AA49 ,  2F065AA54 ,  2F065BB01 ,  2F065CC03 ,  2F065DD00 ,  2F065FF00 ,  2F065PP24 ,  5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119AA38 ,  5D119BA01 ,  5D119CA06 ,  5D119DA01 ,  5D119DA05 ,  5D119JA34 ,  5D119JA64 ,  5D119NA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 微小開口を有するプローブの作製法とそれによるプローブ、並びに該プローブを用いた走査型近接場光顕微鏡と走査型トンネル顕微鏡との複合装置、および該プローブを用いた記録再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-103361   Applicant：キヤノン株式会社
• 近接場プローブ、及び近接場プローブ製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-180088   Applicant：工業技術院長, オリンパス光学工業株式会社
• 光伝搬体プローブの透過孔形成方法および透過孔形成手段を有する走査型プローブ顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-050781   Applicant：セイコー電子工業株式会社