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J-GLOBAL ID：200903012304858447
レジスト材料
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992073108
Publication number (International publication number)：1993241332
Application date： Feb. 26, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：
【要約】【構成】 照射光に対して透過性をもつフッ素系樹脂から成る干渉防止膜を表面に有するレジスト材料である。【効果】 ホトリソグラフィー技術により、特に微細パターンの形成を行う際に、ホトレジスト膜内で照射光が基板からの反射光と干渉することに起因するパターン寸法精度の低下を防止しうるので、寸法精度の優れたレジストパターンを形成することができる。
Claim (excerpt)：
照射光に対して透過性をもつフッ素系樹脂から成る干渉防止膜を表面に有するレジスト材料。
IPC (4)：
G03F 7/004 511
, G03F 7/038
, G03F 7/039
, G03F 7/11
Cited by examiner (9)
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