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J-GLOBAL ID：200903012351700843
電子ビーム照射装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995326976
Publication number (International publication number)：1997167732
Application date： Dec. 15, 1995
Publication date： Jun. 24, 1997
Summary：
【要約】【課題】 電子ビーム照射装置全体をあまり大きくすることなく、加速電圧を大きくできるようにすることを目的とする。【解決手段】 ギャップ403の中央を通る平面410が、照射レンズ302の主面位置となる。そして、ギャップ403の光軸318方向の中心である平面410と成形アパーチャ303とが一致するように、ポールピース401を配置する。
Claim (excerpt)：
放出された電子ビームの領域を成形する第1成形アパーチャと、前記第1成形アパーチャを通過した電子ビームを集束する成形レンズと、前記成形レンズにより前記第1成形アパーチャの電子による像が投影され、前記成形レンズを通過した電子ビームの領域を成形する第2成形アパーチャと、前記第2成形アパーチャに投影される前記第1成形アパーチャの像の位置を制御する成形偏向器と、前記成形偏向器の中央部分に形成される電子ビームのクロスオーバの大きさを制御する照射レンズとを備え、前記照射レンズの電子に対するレンズ効果を発揮する領域の主面の位置と、前記第1成形アパーチャの位置とがほぼ一致していることを特徴とする電子ビーム照射装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G21K 5/04
, H01J 37/305
H01L 21/30 541 B
, G21K 5/04 M
, H01J 37/305 B
