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J-GLOBAL ID：200903012367885231
光学的異方性評価方法、液晶表示装置の製造方法及び光学的検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998057051
Publication number (International publication number)：1999258110
Application date： Mar. 09, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：
【要約】【課題】基板の上に形成されている配向膜等の光学的異方性が小さいものを検査するとき、配向膜が形成されている基板の光学的異方性の影響が大きく正確な検査、計測が困難であった。【解決手段】光弾性効果を示す透明部材に応力を加えた状態で、この透明部材を所望な方向に回転することにより、基板の光学的異方性を補償する光異方性補償器を用いて、光異方性補償器+基板の異方性が実質的に0にし、配向膜単独の光学的異方性が正確に検出できるようにする。
Claim (excerpt)：
多層構造を形成する部品に偏光光を透過させてその光学的異方性を評価する光学的異方性評価方法において、該多層構造の少なくとも一層の光学的異方性を相殺する方向の異方性を有する異方性補正光学部品を前記偏光光の光路中に挿入し、該多層構造の中の残りの光学的異方性を評価する光学的異方性評価方法。
IPC (3)：
G01M 11/00
, G01N 21/21
, G02F 1/13 101
G01M 11/00 T
, G01N 21/21 Z
, G02F 1/13 101
